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半導(dǎo)體超純水設(shè)備如何實(shí)現(xiàn)超高純度水質(zhì)?

更新時間:2025-08-08點(diǎn)擊次數(shù):162
  在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,超純水是關(guān)鍵原料,其純度直接影響芯片的性能與良品率。半導(dǎo)體超純水設(shè)備通過一系列復(fù)雜的工藝流程和技術(shù)手段,確保水質(zhì)達(dá)到超高純度標(biāo)準(zhǔn)。以下是其主要實(shí)現(xiàn)方法:
  一、預(yù)處理階段
  預(yù)處理是超純水制備的第一步,主要目的是去除水中的懸浮固體、顆粒物、微生物、有機(jī)物和部分離子。預(yù)處理工藝通常包括以下幾個環(huán)節(jié):
  1、原水箱與原水泵:儲存原水并提供穩(wěn)定的供水壓力。
  2、石英砂過濾器:通過物理過濾去除水中的大顆粒懸浮物。
  3、活性炭過濾器:吸附水中的有機(jī)物、氯等雜質(zhì),降低水的化學(xué)需氧量(COD)。
  4、軟水器:利用離子交換樹脂去除水中的鈣、鎂等硬度離子,防止后續(xù)設(shè)備結(jié)垢。
  5、保安過濾器:進(jìn)一步去除水中的微小顆粒,確保進(jìn)入后續(xù)系統(tǒng)的水質(zhì)。

半導(dǎo)體超純水設(shè)備

  二、主處理階段

  在主處理階段,超純水設(shè)備采用多種先進(jìn)的水處理技術(shù)來進(jìn)一步凈化水質(zhì):
  1、反滲透(RO)技術(shù):通過半透膜在高壓下將水分子與溶解鹽類、有機(jī)物、微生物等雜質(zhì)分離,去除率可達(dá)99%以上。這一技術(shù)能夠有效降低水的電導(dǎo)率和總?cè)芙夤腆w(TDS)。
  2、電去離子(EDI)技術(shù):EDI技術(shù)結(jié)合了離子交換樹脂和電滲析技術(shù),利用電場的作用使水中的離子定向遷移并被吸附在樹脂上,從而進(jìn)一步去除水中的離子。EDI系統(tǒng)能夠?qū)⑺碾娮杪侍岣叩?5MΩ·cm以上。
  3、離子交換樹脂:在EDI之后,通常還會使用離子交換樹脂進(jìn)行深度脫鹽處理,進(jìn)一步提高水質(zhì)的純度。離子交換樹脂能夠吸附水中的微量離子,使產(chǎn)水的電阻率達(dá)到18MΩ·cm甚至更高。
  三、精處理階段
  精處理階段是為了確保水質(zhì)達(dá)到半導(dǎo)體生產(chǎn)所需的超高純度標(biāo)準(zhǔn),通常包括以下步驟:
  1、拋光混床:拋光混床是超純水制備的最后一步,通過高純度的離子交換樹脂進(jìn)一步去除水中的微量雜質(zhì),確保產(chǎn)水的電阻率達(dá)到18.2MΩ·cm。
  2、紫外線消毒:紫外線消毒技術(shù)用于殺滅水中的細(xì)菌和微生物,確保水質(zhì)的生物安全性。
  3、TOC去除:通過TOC-UV燈裝置或活性炭過濾器去除水中的有機(jī)碳,確保水質(zhì)中的總有機(jī)碳(TOC)含量低于1ppb。
  4、脫氣處理:在半導(dǎo)體超純水生產(chǎn)工藝中,溶解氧和二氧化碳的去除非常重要。通常會在EDI后或拋光混床前安裝脫氣裝置,采用高純氮?dú)獯祾吆驼婵战M合模式,將水中的溶解氧降低到10ppb以下,甚至更低。
  四、水質(zhì)監(jiān)測與自動化控制
  半導(dǎo)體超純水設(shè)備通常配備先進(jìn)的水質(zhì)監(jiān)測系統(tǒng)和自動化控制系統(tǒng)。這些系統(tǒng)能夠?qū)崟r監(jiān)測水質(zhì)參數(shù),如電阻率、TOC、pH值等,并根據(jù)監(jiān)測結(jié)果自動調(diào)整設(shè)備的運(yùn)行狀態(tài),確保水質(zhì)的穩(wěn)定性和可靠性。自動化控制系統(tǒng)還可以實(shí)現(xiàn)設(shè)備的自動啟停、故障報警和遠(yuǎn)程監(jiān)控,提高設(shè)備的運(yùn)行效率和管理水平。
  通過上述多級工藝的協(xié)同作用,半導(dǎo)體超純水設(shè)備能夠有效去除水中的各種雜質(zhì),確保水質(zhì)達(dá)到超高純度標(biāo)準(zhǔn),滿足半導(dǎo)體生產(chǎn)對水質(zhì)的嚴(yán)苛要求。這種高純度的水質(zhì)對于半導(dǎo)體制造過程中的清洗、蝕刻、光刻等工藝至關(guān)重要,能夠有效提高芯片的性能和良品率。

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